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发布日期:10/8/2026 3:01:00 PM

氧化镁(化学式 MgO)是一种典型的碱土金属氧化物,为白色或灰白色无定形粉末,无臭、无味、无毒,密度约 3.58 g/cm³,熔点高达 2852 °C、沸点约 3600 °C,难溶于水和乙醇,但可溶于酸和铵盐溶液。凭借其高熔点、耐高温绝缘性、弱碱性和无毒无害等特点,氧化镁被广泛应用于多个工业与生活领域。

产品信息
 

产品名称

规格

高纯度氧化镁

1-3MM研磨专用

高纯度氧化镁

45μm

高纯度氧化镁

定制低硅低碳<20ppm/500g

高纯度氧化镁

纳米级(1.5微米)/100g

 

(一)、产品基本信息
 

中文名称:氧化镁

英文名称:Magnesium oxide

CAS号:1309-48-4

分子式:MgO

分子量:40.3

外观:白色或灰白色无定形粉末,无臭、无味

熔点: 2852 °C

沸点:约 3600 °C

密度:约 3.58 g/cm³

溶解性:难溶于水和乙醇,但可溶于酸和铵盐溶液

 

(二)、高纯度氧化镁的应用领域
 

高纯度氧化镁凭借高熔点(2852 ℃)、高导热、高绝缘、耐碱侵蚀、低介电损耗、良好透光性等特性,已成为高端电子陶瓷、新能源、特种耐火、医药食品、半导体和航空航天等尖端制造领域不可替代的基础试剂。其核心价值不在于"氧化镁本体",而在于对铁、钙、硅、钠、钾、氯等微量杂质的精细化管控——杂质控制在 ppm 级,才能避免元器件离子迁移、漏电失效、光学散射和钢水二次污染。

 

一、电子半导体领域

1. 陶瓷基板 / 导热陶瓷:制备氧化镁陶瓷,高导热、绝缘、耐高温,用于功率器件、射频元器件、真空电子器件基板;可作为氧化铝、氮化铝陶瓷烧结助剂,降低烧结温度,提升致密度。

2. 单晶衬底:MgO 单晶基底,用于生长氧化物薄膜(超导薄膜、铁电薄膜、压电薄膜),外延生长模板。

3. 电子封装、荧光粉:荧光粉基材 / 助熔剂,用于 LED、显像管;电子元件的绝缘填充料。

4. 锂电池 / 固态电池:作为隔膜涂层添加剂、固态电解质掺杂原料,提升热稳定性、抑制副反应;也用作正极 / 负极包覆改性原料,提升电池安全性能。

 

二、光学、激光行业

制备光学 MgO 单晶,耐高温窗口、红外光学镜片、棱镜;抗碱腐蚀,适合高温红外设备。

光学镀膜原料,真空蒸镀材料。

 

三、耐火材料

高级镁质耐火砖、不定形耐火浇注料,炼钢、有色金属冶炼、水泥窑高温内衬;高纯镁砖抗渣侵蚀,用于真空感应炉、高温窑炉。

 

 四、化工、催化剂与吸附

1. 催化剂载体:负载金属,用于有机合成、废气催化分解(VOC、酸性气体)。

2. 吸附剂:高温吸附酸性气体(SO₂、HCl)、重金属离子;实验室高纯试剂,用于化学分析、基准物质。

3. 特种橡胶、氟橡胶填充:耐高温、阻燃,提升橡胶导热、耐老化。

 

五、其他精细应用

1. 抛光研磨:高纯度氧化镁,用于玻璃、蓝宝石、陶瓷软质精密抛光(属于软磨料,不会造成深划痕)。

2. 热喷涂粉末:高温涂层原料,耐蚀隔热涂层。

3. 复合材料:树脂、塑料导热填料,提升导热 + 阻燃。

 

(三)、高纯度氧化镁在抛光研磨领域的用途

作用机理:MgO 单晶颗粒呈八面体,破碎后仍保留锋利刃口,磨削作用柔和,不易产生深划痕、减少表面变形层。

适合高纯度氧化镁的研磨 / 抛光的场景

1. 金相制样

铝、镁等有色金属;合金钢非金属夹杂物观察的镜面精抛。普通抛光粉含 Fe、Si 杂质,高纯度氧化镁不会引入外来金属污染,不干扰金相显微分析、EDS 能谱检测。

2. 半导体、单晶硅、化合物半导体精抛光

硅片、蓝宝石、氧化物单晶基底超精研磨抛光。高纯度杂质控制在 ppm 级,抛光后无重金属离子残留,避免器件漏电、污染晶圆。

3. 光学元件、红外晶体抛光

软光学晶体、红外窗口材料、薄膜试样的镜面抛光。

 

为何选择我们的产品?

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